pulsed laser deposition PLD
the most flexible PVD.
Bei der gepulsten Laserablation (pulsed laser deposition, PLD) wird hochenergetisches und kurzwelliges (UV) Licht eingesetzt, um das Ausgangsmaterial (Feststofftarget) in die Gasphase und darüber in Form einer Schicht auf das zu beschichtende Werkstück (Substrat) zu bringen. Damit zählt die Laserablation auch zur Klasse der physikalischen Gasphasen-Beschichtungsverfahren (PVD-Verfahren). Der Einsatz von Lasern in der Beschichtungstechnik bietet dabei eine Vielzahl von Vorteilen gegenüber den klassischen PVD-Verfahren (Verdampfen, Sputtern) und profitiert auch von der Weiterentwicklung der UV-Lasertechnologie in den vergangenen 10 Jahren. Dadurch stehen mittlerweile hohe Laserenergien (bis 1 J/Puls) und Repetitionsraten (bis 300 Hz) für eine Schichtabscheidung in Entwicklung und Produktion zur Verfügung.
Eigenschaften PLD
höchste Flexibilität bei Beschichtungsmaterialien
Deposition komplexer Materialien möglich
geringe Temperaturen – ab Raumtemperatur
Multischichtsysteme möglich
hohe Targetausbeute
kostengünstige Targets
Materialabtrag abseits thermodynamischen Gleichgewichts
hohe Prozessreinheit
umweltfreundliches Verfahren
Reaktivgas und Inertgas Prozesse
PLD Beschichtungsmaterialien
Oxide
HTSL
Ferro-/Piezo-/Dielektrika
CMR-Materialien
Optische/ Elektrooptische Materialien
Biokompatible Materialien
Carbide / Nitride
Kohlenstoffschichten Hartstoffschichten
tribologische Schichten Nanokomposite
Polymere
Fluor-Polymere
hochdichte Polymere
Ferrite
Granate
Spinell
Halbleiter
III-V Halbleiter
II-VI Halbleiter
Metalle
Edelmetalle
Metalle / Legierungen